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Product
Specification

용도에 맞는 포토마스크 사양을 확인하세요.

01 / GENERAL·BINARY MASK

General·Binary Mask

생산 공정

Specification

General·Binary Mask · Specification (단위: ㎛)
항목S+SA+ABC
Min. CD (L&S)0.80.91.0———
Min. CD———2510
CD Tolerance±0.03±0.08±0.1±0.2±0.5±1.0
CD Range≤0.04≤0.10≤0.13———
CD Uniformity———≤0.3≤0.8≤1.5
Registration±0.035±0.05±0.1———
Total Pitch———±1.0 ~ ±5
Defect size<0.2<0.3<0.5<1.0<2.0<4.0
SubstrateQuartzQuartz & Sodalime
Material size5″, 6″5″, 6″, 7″, 9″126.6 × 126.6 mm ~ 1400 × 1400 mm
Thickness2.3T / 6.35T2.3T / 3.0T / 3.8T / 6.35T1.0T / 1.5T / 2.3T / 3.0T / 4.8T / 5.0T / 6.35T / 8T / 10T

지원 규격

크기별 지원 두께·소재·막입니다. 기타 규격도 협의 후 대응 가능합니다. 크기·두께 단위: mm · 점은 지원 항목입니다.
구분크기 (mm)2.33.04.86.357.8SODAQUARTZCHROME
SMALL126.6 × 126.6지원자료 표기 없음자료 표기 없음자료 표기 없음자료 표기 없음지원지원지원
152.0 × 152.0지원자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음지원지원지원
177.4 × 177.4지원지원자료 표기 없음자료 표기 없음자료 표기 없음지원지원지원
LARGE228.6 × 228.6자료 표기 없음지원지원자료 표기 없음자료 표기 없음지원지원지원
350.0 × 350.0자료 표기 없음지원자료 표기 없음자료 표기 없음자료 표기 없음지원지원지원
355.6 × 355.6자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음자료 표기 없음지원지원지원
355.6 × 431.8지원지원자료 표기 없음자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음지원
406.4 × 533.4자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음지원
508.0 × 609.6자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음자료 표기 없음지원지원지원
609.6 × 609.6자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음지원
609.6 × 711.2자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음자료 표기 없음지원지원지원
620.0 × 720.0자료 표기 없음자료 표기 없음자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음지원지원
700.0 × 800.0자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음지원지원지원지원
800.0 × 920.0자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음지원자료 표기 없음지원지원
914.4 × 1,117.6자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음지원
813.0 × 1,379.0자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음자료 표기 없음지원자료 표기 없음지원

각 규격의 대응 항목은 제공 자료 기준입니다. 소재·두께·막의 최종 적용 조건은 상담 시 확인해 주세요.

02 / IC MASK

IC Mask

생산 공정

Specification

IC Mask 등급별 사양 (단위: ㎛)
항목ABCDEFGH
Design Rule≥2.51.510.80.50.350.250.18
CD Tolerance±1.00±0.50±0.20±0.10±0.07±0.05±0.04±0.03
CD Uniformity≤1≤0.5≤0.2≤0.1≤0.07≤0.05≤0.04≤0.03
CD MTT±1±0.5±0.2±0.1±0.07±0.05±0.04±0.03
Registration±2.0±1.0±0.5±0.2±0.1±0.07±0.05±0.035
Defect size<4<3<2<1<0.5<0.5<0.3<0.2

지원 규격

152.0 × 152.0 mm · 6.35T · Quartz만 지원합니다.
크기 (mm)6.35QUARTZ
152.0 × 152.0지원지원
03 / SPECIAL MASKS

Special Masks

개발과 양산 목적에 맞춰 패턴과 기능을 설계·제작하는 맞춤형 포토마스크입니다.

01 / MULTI-TONE

Multi-Tone Mask

하나의 마스크에 서로 다른 투과율 영역을 구현해 PR, Resin 등 리소그래피용 감광재의 감도 특성을 평가하는 마스크입니다.

멀티톤 마스크의 투과율 패턴과 빛, 노광, 결과물 관계를 보여주는 도식
영역별 투과율을 달리한 멀티톤 마스크와 노광 개념
Posi Type 예시입니다.
최소 CD
Line & Space: 2μm ±0.2μm
투과율 오차
±3%
층간 Overlay
±2μm
파장 범위
350–700nm · 기준 파장 선택
크기
126.6 × 126.6 / 152.0 × 152.0 / 177.4 × 177.4mm
두께
4.8 / 6.35 / 7.8mm
02 / TARGET

Target Mask

일반 제품보다 낮은 반사율을 구현하는 차트 마스크입니다. 비전 교정 차트와 머신 캘리브레이션 차트, 테스트 타깃 제작에 활용됩니다.

반사율 기준
크롬 / 백색 유리 · 430nm에서 3.0% 이상
활용 분야
비전·장비 교정, 테스트 타깃
사양 조정
사용 목적에 따라 협의 가능

제품별 세부 규격과 제작 조건은 용도에 따라 달라질 수 있습니다.

필요한 정밀함, 함께 찾아갑니다.