개발과 양산 목적에 맞춰 패턴과 기능을 설계·제작하는 맞춤형 포토마스크입니다.
01 / MULTI-TONEMulti-Tone Mask
하나의 마스크에 서로 다른 투과율 영역을 구현해 PR, Resin 등 리소그래피용 감광재의 감도 특성을 평가하는 마스크입니다.
영역별 투과율을 달리한 멀티톤 마스크와 노광 개념
Posi Type 예시입니다.- 최소 CD
- Line & Space: 2μm ±0.2μm
- 투과율 오차
- ±3%
- 층간 Overlay
- ±2μm
- 파장 범위
- 350–700nm · 기준 파장 선택
- 크기
- 126.6 × 126.6 / 152.0 × 152.0 / 177.4 × 177.4mm
- 두께
- 4.8 / 6.35 / 7.8mm
02 / TARGETTarget Mask
일반 제품보다 낮은 반사율을 구현하는 차트 마스크입니다. 비전 교정 차트와 머신 캘리브레이션 차트, 테스트 타깃 제작에 활용됩니다.
- 반사율 기준
- 크롬 / 백색 유리 · 430nm에서 3.0% 이상
- 활용 분야
- 비전·장비 교정, 테스트 타깃
- 사양 조정
- 사용 목적에 따라 협의 가능
제품별 세부 규격과 제작 조건은 용도에 따라 달라질 수 있습니다.