포토마스크의 패턴면을 오염으로부터 보호하기 위해 펠리클을 장착합니다. 제품 규격과 사용 조건을 확인해 장착 가능 여부를 안내합니다.
이물은 초점 밖에 있어 웨이퍼에는 흐리게 맺힙니다
Posi Type 예시입니다.
- 반도체 제품 생산 수율 향상
- 포토마스크 세정 주기 연장
- 포토마스크의 오염 보호
- 반복 사용 시 오염원으로부터 패턴면 격리
- 포토마스크 사용 수명 연장
신규 장착 서비스입니다. 사용 중인 펠리클 교체는 Maintenance의 Pellicle replacement(펠리클 교체)에서 안내합니다.
패턴이 형성된 포토마스크 표면에 균일한 박막 보호층을 형성합니다. 표면 장력을 낮추고 물과 기름의 접촉각을 조절해 오염을 방지하며 발수성과 표면 경도를 높입니다.
근접·접촉 노광 시 마스크 하부 PR 오염 억제 및 IPA 패드 스크럽 세정 비교
Posi Type 예시입니다.
- 오염 방지와 세정 용이성 향상
- 화학약품 사용 부담 완화 및 세정 주기 연장
- 9H 경도 유지로 스크래치 예방
- 사용 수명 연장과 생산성 개선
01 / CLEANING SERVICECleaning service (세정 서비스)
마스크 표면의 이물(Particle)을 제거합니다. 세정 후에는 고객이 다시 검사하고 측정할 수 있습니다.
세정을 맡기는 서비스입니다. 고객이 직접 보는 간이세정 안내는 기술지원자료실에 있습니다.
02 / PELLICLE REPLACEMENTPellicle replacement (펠리클 교체)
스크래치, 손상, 찢김, 오염이 생긴 펠리클 필름을 제거하고 세정을 거쳐 다시 장착합니다. 펠리클은 반도체 제품 생산 수율 향상, 포토마스크 세정 주기 연장, 오염으로부터의 보호, 사용 수명 연장을 위해 사용합니다.
사용 중인 펠리클의 교체 서비스입니다. 신규 장착은 Pellicle 서비스에서 안내합니다.
유지보수 가능 여부와 조건은 포토마스크 상태에 따라 달라질 수 있습니다.
01 / FINE VISIONFine Vision
미세 패턴 편집과 에칭 보정에 특화되어 있습니다. 윤곽 추출, 간격에 따라 오프셋량이 달라지는 Distance Offset, 리드 프레임 형상 보정을 처리합니다.
02 / ROUTER VISIONRouter Vision
Gerber, DXF 등 CAD 데이터로 라우터용 NC 프로그램을 자동·반자동으로 만듭니다. 경로 검사와 공정 스케줄러로 반복 작업과 가공 실수를 줄입니다.
03 / ZIG VISIONZig Vision
지그 설계용입니다. PAD FLASH 변환, PROBE PIN 최적화, 단자 번호가 포함된 핀 정보 출력을 지원합니다.