마이크로이미지 포토마스크 Photo mask - Fine Vision
마이크로이미지
Stella Vision
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Fine Vision
Fine Vision for Java에서는 다른 프로그램에서 볼 수 없는 강력한 윤곽 추출 처리와 內/外 자동 판정을 포함 오프셋 처리가 특징이며, 다수의 도형 선택 명령은 특정 데이터를 쉽게 식별 선택 할 수 있습니다.

또한 도형끼리의 논리 연산 처리에 의한 특이한 도형 편집 처리 매개 변수 입력에 의한 미세한 에칭 가공의 일괄 처리, 최소 간격을 유지하면서 모양에 따라 선형 적으로 오프셋 에칭 보정 처리를 할 수 있습니다.


Fine Vision
주요 기능 소개
▩ Distance Offset
에칭 보정을 위해 개발 된 특수 오프셋 명령입니다. 일반 오프셋 처리와는 다릅니다. 에칭 속도는 에칭용액의 양, 방법, 위치 등 다양한 요인에 따라 차이가 있습니다.
인접 데이터간 사이가 넓은 곳은 에칭액의 양이 충분하여 에칭 속도는 빨라지며 좁은 부분에서는 그 반대입니다.
따라서 자동으로 에칭 보정를 설계하는 것은 극히 어려운 일처럼 생각되어 왔습니다.
간격에 따른 오프셋 처리가 어렵기 때문입니다.
그것을 쉽게 자동으로 실현한 것이 Distance Offset 명령입니다. 옵셋 량을 위치에 따라 자유 자재로 변화시킬 수 있습니다.
인접한 데이터와의 거리를 보면서 모두 자동으로 내부 계산 결과를 반영합니다.
물론 최소 간격 값을 유지하면서 수행하기 때문에 현실적이지 않은 결과를 초래할 수 없습니다.
또한 데이터 전체를 여러 구역으로 나누어 각각 다른 설정 값을 구현 할 수 있습니다.
Fine Vision



▩ Etching Factor
리드 프레임의 형상을 변경 오프셋 하거나 끝 부분 만의 모양을 변경할 수 있습니다.
Etching Factor



▩ Put Horn
리드 프레임의 모서리 보정을합니다.
Put Horn



▩ 저항 측정 시뮬레이션 기능 (옵션)
전극 설계 도구로 저항 값을 자동으로 예측하고 조정할 수 있는 소프트웨어를 개발했습니다.
기존 전극 형상이 선 모양에 제약이 있었지만, 새로운 알고리즘에 의해 모든 전극 형상의 저항 값을 예측할 수 있게 되었습니다.
이것은 세계 최초의 쾌거로, 패시브 매트릭스 LCD, 수동 매트릭스 , 유기 EL 디스플레이, FPC 설계 지원 도구로 사용할 수 있습니다.
멀티 플랫폼 대응 CAM 시스템 설계 소프트웨어 「Stella Vision for Java」 옵션 기능으로 설치할 수 있습니다.
저항 측정 시뮬레이션 기능 (옵션)