Pellicle Mount
Pellicle이란?
아노다이징 처리 된 알루미늄 프레임에 박막이 부착되어 있는 구조로 이루어져 있으며 Photo Mask의 표면을 대기중의 오염으로부터 보호해 주는 목적으로 사용되고 있습니다.
Pellicle의 사용목적
- 반도체 제품 생산 수율 향상
- 포토마스크의 세정 주기 연장
- 포토마스크의 오염으로부터 보호
- 반복적인 포토마스크 사용시 오염원으로부터 격리
- 포토마스크의 사용 수명 연장
- 포토마스크의 세정 주기 연장
- 포토마스크의 오염으로부터 보호
- 반복적인 포토마스크 사용시 오염원으로부터 격리
- 포토마스크의 사용 수명 연장
Pellicle 막 비교
| 구분 | Cellulose 막 | Per-Fluorop olymer 막 |
|---|---|---|
| 적용 가능 노광 파장대 | G & I Line | |
| Transmittance(투과율) | over 99 % at G&I Line | |
| Life Time | 200,000 Joule/cm at i-line light source | 1,000,000 Joule/cm at i-line light source |
| Shut 기준 노광 횟수 | 200,000,000mj/cm ÷ 600mj/cm = 333,333Shut |
1,000,000,000mj/cm ÷ 600mj/cm = 1,666,666Shut |
※ Pellicle 막에 이물이 묻어도 초점이 맞지 않기 때문에 회로 패턴에 영향 없음
※ 두께 2~4㎛ 종류마다 다름
